“社长，BSEC今晚发布了一则重要公告，内容是：BSEC光刻机研究院经过二年多时间的研究，在65nm制程浸润式光刻机2230i的基础上，研发成功全球第一款45nm制程浸润式光刻机3360i，已经通过国家光刻机专家组鉴定，并向中国专利局和世界专利局同时申请公司发明专利，计划7月下旬量产。PGCA半导体公司已经预定一条45nm制程半导体生产线。”

6月8日，周四晚上，尼康公司常务副总裁原田弘树打电话给社长兼CEO森佳照明，大家最担心的事情还是发生了。

近一周过去，应邀参观DSP-100干式光刻机的晶圆大厂的代表没有任何预定的消息，PGCA和TTFAB可以理解，但Intel、AMD、台积电、三星和联电等方面也没有预定产品的意向，亲自负责DSP-100干式光刻机预定的常务副总裁原田弘树预感不妙，一直关注BSEC、AMD和ASML的新闻。

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